| 摘要 |
본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리장치는, 일측에 형성된 통로를 통해 기판이 이송되며, 상부 및 하부가 개방된 챔버본체; 상기 챔버본체의 상부에 설치되어 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 공정공간을 제공하며, 하부가 개방된 형상을 가지는 내부반응튜브; 상기 챔버의 개방된 하부에 배치되어 상기 통로를 통해 이송된 상기 기판을 상하방향을 따라 적재하는 적재위치 및 상기 공정공간을 향해 상승하여 적재된 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 공정위치로 전환가능한 기판홀더; 상기 기판홀더의 하부에 연결되어 상기 기판홀더와 함께 승강하며, 상기 공정위치에서 상기 내부반응튜브의 개방된 하부를 폐쇄하는 차단플레이트; 상기 차단플레이트의 하부에 기립설치되어 상기 차단플레이트와 함께 승강하는 연결실린더; 상기 챔버본체의 개방된 하부면과 상기 연결실린더 사이에 연결되며, 개방된 상기 챔버본체의 하부를 외부로부터 격리하는 차단부재를 포함한다. |
