先細り流動床反応器及びその使用のためのプロセス

摘要

流動床反応器は、ガス分配器と、ガス分配器の上の先細り部分と、先細り部分の上の拡大先端部とを含む。ガス分配器は、流動床反応器から離れて延在する、生成物回収管を包囲する、複数の入口を画定する。流動床反応器は、ゲルダート群Ｂ粒子及び／又はゲルダート群Ｄ粒子等の比較的大きい粒子を流体化するためのプロセスにおいて有用であり、該粒子は、先細り部分中に全体的に又は部分的に存在する気泡流動床中に存在する。流動床反応器及びプロセスは、多結晶シリコンを製造するために使用され得る。