发明名称 photoresist caoting apparatus for removing bubble in photoresist
摘要 <p>본 고안의 포토레지스트 도포 장치는 포토레지스트 저장부와, 상기 포토레지스트 저장부와 연결된 제1 흡입 배관을 통하여 포토레지스트를 흡입하고 제1 배출 배관을 통하여 상기 포토레지스트를 배출함과 아울러 상기 포토레지스트 내의 기포를 제거하는 포토레지스트 공급 및 탈포 펌프와, 상기 포토레지스트 공급 및 탈포 펌프와 연결된 제1 배출 배관을 통해 배출된 상기 포토레지스트를 흡입하고 제2 배출 배관을 통하여 상기 포토레지스트를 배출하는 포토레지스트 공급 펌프와, 상기 포토레지스트 공급 펌프의 제2 배출 배관을 통하여 배출된 상기 포토레지스트를 기판 상에 도포하는 포토레지스트 코팅부를 포함한다.</p>
申请公布号 KR20150003607(U) 申请公布日期 2015.10.05
申请号 KR20140002344U 申请日期 2014.03.25
申请人 发明人
分类号 H01L21/02;H01L21/027 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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