| 摘要 |
レチクルの加熱を制御するためのシステムおよび方法を開示する。一実施形態では、複数の放射源は、複数の放射ビーム（２０６）を生成してパターニングデバイス（２１０）に供給する。パターニングデバイス（２１０）は、ビームからの放射の一部を吸収して空間依存する加熱プロファイルを形成する。さらなる実施形態では、複数の抵抗加熱源（９０６）は、印加した電圧または電流に応じて熱を生成する。生成された熱は、抵抗加熱源からパターニングデバイスによって吸収されて空間依存する加熱プロファイルの形成へと繋がる。熱応力、熱ひずみおよび熱変形は、空間依存する加熱プロファイルを制御することによって制御することができる。【選択図】図４ |
