发明名称 APPARATUSES FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION
摘要 <p>본 발명의 실시예들은 플라즈마-향상 ALD(PE-ALD)와 같은 원자 층 증착(ALD)을 위한 장치들을 제공한다. 일 실시예에서, 샤워헤드 어셈블리가 제공되고, 샤워헤드 어셈블리는, 상단면 및 하단면, 및 반경을 포함하는 샤워헤드 플레이트 ― 상기 반경은 상기 샤워헤드 플레이트의 중앙으로부터 외측 에지로 연장함 ―, 상단면 및 하단면과 유체 소통하고, 샤워헤드 플레이트의 중앙으로부터 샤워헤드 플레이트의 반경의 25%부근까지 연장하는 제 1 존 내에 위치설정되는, 제 1 다수의 홀들 ― 각각의 홀은 0.1인치 미만의 직경을 가짐 ― , 및 상단면 및 하단면과 유체 소통하고, 샤워헤드 플레이트의 반경의 25%부근으로부터 샤워헤드 플레이트의 외측 에지 부근까지 연장하는 제 2 존 내에 위치설정되는, 제 2 다수의 홀들 ― 각각의 홀은 0.1인치를 초과하는 직경을 가짐 ― 를 포함한다.</p>
申请公布号 KR20150111374(A) 申请公布日期 2015.10.05
申请号 KR20157025534 申请日期 2009.07.02
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 LAM HYMAN;ZHENG BO;HUA AI;JACKSON MICHAEL;YUAN XIAOXIONG;WANG HOU GONG;UMOTOY SALVADOR P.;YU SAN HO
分类号 H01L21/314;H01L21/205;H01L21/67;H01L21/683 主分类号 H01L21/314
代理机构 代理人
主权项
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