极紫外线微影方法;METHOD FOR EXTREME ULTRA-VIOLET LITHOGRAPHY

摘要

本发明提供之极紫外线微影方法的一实施例。上述方法包括将光罩承载至微影系统。光罩包括缺陷修补区，并定义一积体电路(IC)图案于其上。上述方法亦包括在依据IC图案之照射模式中设定微影系统的照射器，及依据照射模式设置光瞳滤光器于微影系统中。上述方法在照射模式中，以微影系统搭配光罩与光瞳滤光器进行微影曝光制程至目标。