发明名称 基板载置台、基板处理装置、及温度控制方法
摘要
申请公布号 TWI502680 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW097133598 申请日期 2008.09.02
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 佐佐木康晴
分类号 H01L21/683;H01L21/3065 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种基板载置台,属于在基板处理装置中载置基板之基板载置台,其特征为:具备载置台本体;和于在上述载置台本体之基板载置侧之表面载置基板之时,接触于基板之周缘部,并在基板之下侧部分形成流通热传达用气体之封闭空间的周缘环状凸部;和形成在上述基板载置侧之表面之周缘部附近或中央部附近中之任一方的上述热传达用气体流入口;和被形成在另一方之上述热传达用气体流出口;和被形成在上述基板载置侧之表面,于上述热传达用气体自上述热传达用气体之流入口流动至流出口时,形成传导率C之流路,上述流路系环状形成复数列藉由连结材连结上端不与上述基板接触而接近被设置之矩形或圆柱形之突起部的流路形成构件而构成。
地址 日本