发明名称 半导体装置;SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 提供一种可用于电晶体的半导体等的氧化物的制造方法。尤其是,提供一种晶界等缺陷少的氧化物的制造方法。本发明的一个方式是一种半导体装置,包括:氧化物半导体;绝缘体;以及导电体,其中,氧化物半导体包括氧化物半导体与导电体隔着绝缘体彼此重叠的区域,并且,氧化物半导体包含等效圆直径为1nm以上的晶粒和等效圆直径小于1nm的晶粒。
申请公布号 TW201537682 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW104106498 申请日期 2015.03.02
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. 发明人 山崎舜平 YAMAZAKI, SHUNPEI;山田良则 YAMADA, YOSHINORI;野中裕介 NONAKA, YUSUKE;太田将志 OOTA, MASASHI;黒泽阳一 KUROSAWA, YOICHI;石原典 ISHIHARA, NORITAKA;浜田崇 HAMADA, TAKASHI;一条充弘 ICHIJO, MITSUHIRO;恵木勇司 EGI, YUJI
分类号 H01L21/822(2006.01);H01L29/786(2006.01) 主分类号 H01L21/822(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP