发明名称 CMOS-Bildsensor-Struktur
摘要 <p>Eine Halbleitervorrichtung wird betrieben, um einfallendes Licht zu erfassen, und umfasst ein Substrat, eine Vorrichtungsschicht und eine Farbfilter-Schicht. Die Vorrichtungsschicht ist auf dem Substrat angeordnet und umfasst lichterfassende Bereiche. Die Halbleiterschicht liegt über der Vorrichtungsschicht und weist eine erste Oberfläche und eine der ersten Oberfläche gegenüberliegende zweite Oberfläche gegenüber auf. Die erste Oberfläche grenzt an die Vorrichtungsschicht an. Die Halbleiterschicht umfasst Mikrostrukturen auf der zweiten Oberfläche. Die Farbfilter-Schicht ist auf der zweiten Oberfläche der Halbleiterschicht angeordnet.</p>
申请公布号 DE102014113618(A1) 申请公布日期 2015.10.01
申请号 DE201410113618 申请日期 2014.09.22
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 TU, CHIEN-NAN;YEH, YU-LUNG;LIN, HSING-CHIH;HUANG, CHIEN-CHANG;CHEN, SHIH-SHIUNG
分类号 H01L27/146;H01L21/8238;H01L31/10 主分类号 H01L27/146
代理机构 代理人
主权项
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