发明名称 积体电路结构
摘要
申请公布号 TWI502704 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW099138082 申请日期 2010.11.05
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 黄见翎;吴逸文;刘重希
分类号 H01L23/485 主分类号 H01L23/485
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种积体电路结构,包括:一半导体基板;一钝化层,位于该半导体基板上;一高分子层,位于该钝化层上;一内连线线路,形成于该钝化层与该高分子层之间;以及一保护层,形成于该内连线线路与该高分子层之间;其中该保护层为含铜材料层,且包括III族元素、IV族元素、或V族元素中至少一者,其中该保护层覆盖该内连线线路的所有侧壁。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号