感光性聚矽氧烷组成物及其应用;PHOTOSENSITIVE POLYSILOXANE COMPOSITION AND USES THEREOF

摘要

本发明系有关一种感光性聚矽氧烷组成物及由该感光性矽氧烷组成物所形成之保护膜，其用于形成TFT基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路之芯材或包覆材，该保护膜具有ITO图案不易视认与低温固化佳之特性。该感光性矽氧烷组成物包含：聚矽氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、选自由热酸发生剂及热硷发生剂所组成之群之至少一种之化合物(C)、无机粒子(D)以及溶剂(E)。; an ortho-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (B); a compound (C) selected from the group consisting of a thermal acid generator and a thermal bas generator; inorganic particles (D); and a solvent (E).