| 主权项 |
一种曝光装置，一方面使基板相对于透过投影光学系统而曝光光束照射的照射区域而沿第1方向移动，一方面对包含第1和第2基板的多个上述基板依序执行对上述基板上的曝光对象区域进行曝光的曝光处理，上述曝光装置包括：基板平台，保持上述基板，并相对于上述照射区域而使上述基板移动；对准系统，用以检测述多个标记，上述多个标记是设置在上述基板平台的上述基板上；以及控制装置，基于利用上述对准系统的上述多个标记的检测结果，控制在上述曝光处理的上述基板平台的移动，上述对准系统包括：第1对准系统，具有第1检测区域，其相对于上述照射区域而设置在上述第1方向上的一侧；以及第2对准系统，具有第2检测区域，其相对于上述照射区域而设置在上述第1方向上的另一侧，上述控制装置进行以下控制：基于第1检测结果，控制对于上述第1基板之在上述曝光处理的上述基板平台的移动，其中上述第1检测结果是利用上述第1对准系统，对设置在上述第1基板的上述多个标记中、相对于上述曝光对象区域而设置上述一侧的第1标记以及相对于上述曝光对象区域而设置上述另一侧的第2标记，进行检测而得，基于利用上述第1对准系统对在上述第2基板的上述
第1标记进行检测而得的第2检测结果、利用上述第2对准系统对在上述第2基板的上述第2标记进行检测而得的第3检测结果、以及上述第1检测结果，控制对于上述第2基板之在上述曝光处理的上述基板平台的移动。
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