发明名称 电浆蚀刻室
摘要
申请公布号 TWI502641 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW097142923 申请日期 2008.11.06
申请人 梭沙尔股份有限公司 发明人 李熙世;郑成炫;朴世文
分类号 H01L21/3065;H01L21/67 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种用于蚀刻一晶圆之一边缘的电浆蚀刻室,包含:一气体分配板,该气体分配板引导一反应气体至该晶圆之该边缘且在该气体分配板之一底部表面形成有一凹槽;一板,该板配置成与该气体分配板隔开;一挡板,该挡板配置在该气体分配板之该凹槽内侧以与该气体分配板隔开,该挡板引导供应给该凹槽的一惰性气体;及缓冲器部分,该些缓冲器部分在该气体分配板及该板之相面对表面的至少一个表面上突出以均等化该反应气体的压力,且该些缓冲器部分在该气体分配板及该挡板之相面对表面的至少一个表面上突出以均等化该惰性气体的压力;其中该些缓冲器部分交替地形成在该气体分配板及该挡板上,以便在该晶圆的一内侧形成均匀的无放电区域。
地址 南韩