发明名称 有机半导体膜形成用组成物;COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC SEMICONDUCTOR LAYER
摘要 本发明提供一种有机半导体膜形成用组成物,其可制造显示出优异的迁移率、且样本间的迁移率的偏差小的有机半导体膜。本发明的有机半导体膜形成用组成物至少含有:第1有机半导体化合物,于分子内具有母核及键结于母核的取代基X,其中所述母核含有2个以上的噻吩环,且包含含有噻吩环的至少4个以上的环数的缩环结构;第2有机半导体化合物,具有与第1有机半导体化合物相同的母核,且满足既定的要件;以及有机溶剂。
申请公布号 TW201536792 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW104109995 申请日期 2015.03.27
申请人 富士软片股份有限公司 FUJIFILM CORPORATION 发明人 早田佑一 HAYATA, YUUICHI;仮屋俊博 KARIYA, TOSHIHIRO;平井友树 HIRAI, YUKI
分类号 C07D495/04(2006.01);C07D495/14(2006.01);C07D495/22(2006.01);H01L51/50(2006.01) 主分类号 C07D495/04(2006.01)
代理机构 代理人 叶璟宗郑婷文詹富闵
主权项
地址 日本 JP