发明名称 基板处理装置,半导体装置之制造方法及记录媒体;SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM
摘要 本发明系可将清洗气体以高效率之方式加以供给至莲蓬头(shower head)内之期望部位。;本发明系一种基板处理装置,其经由作为气体分散机构之莲蓬头,而向处理空间加以供给气体,并对该处理空间内之基板进行处理,其具备有:气体供给管,其连接至上述莲蓬头;气体排气管,其连接至上述莲蓬头;及清洗气体供给系统,其连接至上述气体供给管与上述气体排气管,且自上述气体供给管与上述气体排气管之两侧,向上述莲蓬头内供给清洗气体。
申请公布号 TW201537650 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW103122667 申请日期 2014.07.01
申请人 日立国际电气股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. 发明人 八幡橘 YAHATA, TAKASHI
分类号 H01L21/67(2006.01) 主分类号 H01L21/67(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣宿希成
主权项
地址 日本 JP