发明名称 |
基板处理装置,半导体装置之制造方法及记录媒体;SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM |
摘要 |
本发明系可将清洗气体以高效率之方式加以供给至莲蓬头(shower head)内之期望部位。;本发明系一种基板处理装置,其经由作为气体分散机构之莲蓬头,而向处理空间加以供给气体,并对该处理空间内之基板进行处理,其具备有:气体供给管,其连接至上述莲蓬头;气体排气管,其连接至上述莲蓬头;及清洗气体供给系统,其连接至上述气体供给管与上述气体排气管,且自上述气体供给管与上述气体排气管之两侧,向上述莲蓬头内供给清洗气体。 |
申请公布号 |
TW201537650 |
申请公布日期 |
2015.10.01 |
申请号 |
TW103122667 |
申请日期 |
2014.07.01 |
申请人 |
日立国际电气股份有限公司 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. |
发明人 |
八幡橘 YAHATA, TAKASHI |
分类号 |
H01L21/67(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣宿希成 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |