发明名称 |
液体处理方法及记录有用来实行此液体处理方法之程式的记录媒体与液体处理装置 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI502639 |
申请公布日期 |
2015.10.01 |
申请号 |
TW100128227 |
申请日期 |
2011.08.08 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 |
发明人 |
水野刚资;难波宏光;两角友一朗;菱屋晋吾;原田豪繁;早濑文朗 |
分类号 |
H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/306 |
代理机构 |
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代理人 |
周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 |
主权项 |
一种液体处理方法,其利用处理液对基板的背面进行处理,其特征为包含:第1步骤,其利用设置成可旋转且用以支持基板的支持部支持表面以及背面形成了含钛膜的基板,使该支持部所支持之该基板与该支持部一起旋转,及藉由对旋转之该基板的该背面供给含氟酸的第1处理液,并利用所供给之该第1处理液对该基板的该背面进行处理,以自该基板的该背面移除该含钛膜;第2步骤,其在该第1步骤之后,对旋转之该基板的该背面供给含氨与过氧化氢水溶液的第2处理液,利用所供给之该第2处理液对该基板的该背面进行处理,以移除残留的钛微粒;及清洗步骤,在该第2步骤之后,对旋转之该基板的该背面供给清洗液。
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地址 |
日本 |