乾式蚀刻方法

主权项

一种乾式蚀刻方法，其系于形成于基板上之具有复数积层有矽层与绝缘层之层状构造之积层膜上，使用蚀刻气体对显露于在基板面上沿垂直方向形成之孔或沟槽之内侧面之复数之矽层进行蚀刻者；其特征在于：作为蚀刻气体，使用含有选自ClF3、BrF5、BrF3、IF7及IF5中之至少1种气体及F2之气体。