| 主权项 |
一种基板处理装置，系对基板施行处理的基板处理装置，其具备有处理区块，上述处理区块系具有经叠层之复数槽，上述槽分别具备有：对基板施行处理之处理单元；以及设置于搬送空间，将基板搬送至上述处理单元之单一主搬送机构；上述处理单元系包括有：对基板施行液处理的液处理单元、以及对基板施行热处理的热处理单元，上述液处理单元系配置于上述搬送空间之一侧边，上述热处理单元系配置于上述搬送空间之另一侧边，上述主搬送机构及上述处理单元的俯视布局系在各槽间略同，液处理单元之侧视布局系在各槽间略同，热处理单元之侧视布局系在各槽间略同，在各槽分别对基板所施行的处理系相同，处理区块以俯视观察时为矩形，上述处理区块系包含涂布处理区块与显影处理区块，上述处理区块与上述显影处理区块系于横向排列而配置，设置于上述涂布处理区块之上述液处理单元，系将处理液涂布于基板的涂布处理单元，
设置于上述显影处理区块之上述液处理单元，系将显影液供给至基板的显影处理单元，于上述涂布处理区块的各槽中，上述涂布处理单元系配置于上述搬送空间之一侧，上述热处理单元系配置于上述搬送空间之另一侧，于上述显影处理区块的各槽中，上述显影处理单元系配置于上述搬送空间之一侧，上述热处理单元系配置于上述搬送空间之另一侧，上述显影处理单元系配置于与上述涂布处理单元之相同侧。
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