| 主权项 |
一种涂布、显像装置，系将藉由载体搬入至载体区块之基板收授于处理区块，以该处理区块形成含有光阻膜之涂布膜之后，相对于上述处理区块经位于与载体区块相反侧之介面区块而搬运至曝光装置，在上述处理区块对经上述介面区块而返回之曝光后之基板进行显像处理而收授至上述载体区块，该涂布、显像装置之特征为：(a)上述处理区块包含：上下叠层有多数前段处理用之单位区块的构造，该前段处理用之单位区块具备：为了在基板形成下层侧之反射防止膜，供给药液之下层用之液处理模组；为了在上述反射防止膜上形成光阻膜，供给光阻液的涂布模组；加热基板之加热模组；及为了在该些模组间搬运基板，在从载体区块侧延伸至介面区块侧之直线搬运路上移动之单位区块用之搬运机构；多数后段处理用之单位区块，其系与该前段处理用之单位区块邻接而各被设置在多数之前段处理用之单位区块之介面区块侧，具备：为了在形成有光阻膜之基板形成光阻膜之上层侧之保护膜，供给药液之上层用之液处理模组；加热基板之加热模组；用于洗净曝光前的基板之洗净模组；为了在该些模组间搬运基板，在从载体区块侧延伸至介面区块侧之直线搬运路上移动之单位区块用之搬运机构；涂布处理用之收授部，其系各被设置在前段处理用之
单位区块和对应之后段处理用之单位区块之间，用以在两单位区块之搬运机构之间进行基板之收授：第1显像处理用之叠层区块，该系上下叠层多数显像处理用之单位区块而构成，且相对于上下叠层有多数上述前段处理用之单位区块的构造而被叠层于上下方向，且该显像处理用之单位区块具备：对基板供给显像液之液处理模组；加热基板之加热模组；及在从载体区块侧延伸至介面区块侧之直线搬运路上移动之单位区块用之搬运机构；第2显像处理用之叠层区块，该系上下叠层复数显像处理用之单位区块而构成，且相对于上下叠层有多数上述后段处理用之单位区块的构造而被叠层于上下方向，且该显像处理用之单位区块具备：对基板供给显像液之液处理模组；加热基板之加热模组；及在从载体区块侧延伸至介面区块侧之直线搬运路上移动之单位区块用之搬运机构；显像处理用之收授部，其系各被设置在第1显像处理用之叠层区块之单位区块和对应于该单位区块之第2显像处理用之叠层区块之单位区块之间，用以在两单位区块之搬运机构之间进行基板的收授；及辅助移载机构，其系为了在各段之涂布处理用之收授部之间及各段之显像处理用之收授部之间进行基板之搬运，被设置成升降自如，该涂布、显像装置具备：(b)搬入搬出用之收授部，其系被设置在每个单位区块的载体区块侧，在与各单位区块之搬送机构之间进行
基板之收授；(c)第1收授机构，其系用以将基板从载体分配至对应于前段处理用之各单位区块的搬入搬出用之上述收授部而进行收授，并且使基板从对应于显像处理用之各单位区块之搬入搬出用之收授部返回至载体；及(d)第2收授机构，其系用以接取在上述处理区块被处理之曝光前之基板，将曝光后之基板分配至显像处理用之单位区块而进行收授。 |
