发明名称 Niederdruckplasmaanlage mit sequentieller Steuerung
摘要 Die Erfindung betrifft eine Niederdruckplasmaanlage (10). Die Niederdruckplasmaanlage (10) weist eine Behandlungskammer (12) auf. Die Behandlungskammer (12) wird in einem ersten Prozessschritt, dem Abpumpen, durch eine Pumpe (14) abgepumpt. In einem zweiten Prozessschritt, der Prozessgaseinstellung, wird zusätzlich ein Gaszuflussventil (20) geöffnet, um in der Behandlungskammer (12) eine definierte Gaszusammensetzung bei niedrigem Druck zu erzielen. In einem dritten Prozessschritt, der Plasmabehandlung, wird ein Plasmagenerator angeschaltet, um ein Plasma in der Behandlungskammer (12) zu zünden. In einem vierten Prozessschritt, dem Spülen, kann ein Spülventil (28) geöffnet werden, um die Behandlungskammer (12) zu spülen. In diesem Prozessschritt sind das Gaszuflussventil (20) geschlossen und der Plasmagenerator abgeschaltet. In einem fünften Prozessschritt, dem Belüften, kann die Behandlungskammer (12) über ein Belüftungsventil (18) belüftet werden. Den Prozessschritten entsprechen Schaltstellungen eines sequentiellen Schaltelements (30), vorzugsweise in Form eines Drehschalters. Das sequentielle Schaltelement (30) kann eine nullte Schaltstellung aufweisen, in der die Niederdruckplasmaanlage (10) abgeschaltet ist. Das sequentielle Schaltelement (30) ermöglicht eine einfache Ausbildung der Niederdruckplasmaanlage (10) sowie deren intuitive Bedienung.
申请公布号 DE102014205695(A1) 申请公布日期 2015.10.01
申请号 DE201410205695 申请日期 2014.03.27
申请人 DIENER, CHRISTOF-HERBERT 发明人 DIENER, CHRISTOF-HERBERT
分类号 H05H1/46;C23C16/513;H01J37/32 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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