发明名称 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOCURABLE COMPOSITION, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
摘要 특정 구조의 화합물을 함유함으로써 효율적으로 염기를 발생하고, 특히 광 경화성 조성물로서 사용한 경우, 감도, 반응 콘트라스트 및 현상성이 우수하고, 형성된 경화막의 잔막률, 내용제성 및 열 안정성이 우수하고, 또한 레지스트 조성물로서 사용한 경우, 해상력, LER 성능, 형성된 패턴의 형상 및 스컴 성능이 우수한 감광성 조성물을 제공한다. 하기 일반식(I)으로 나타내어지는 화합물을 함유하는 감광성 조성물.[일반식(I) 중 Y는 1가의 유기기를 나타낸다. R은 1가의 유기기를 나타낸다. R및 R는 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 시클로알킬기, 아릴기, 또는 헤테로 아릴기를 나타낸다. R및 R는 서로 결합해서 질소 함유 복소환기를 형성해도 좋다]
申请公布号 KR20150109454(A) 申请公布日期 2015.10.01
申请号 KR20157022685 申请日期 2014.01.21
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 TSUCHIMURA TOMOTAKA;SAKITA KYOUHEI
分类号 G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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