发明名称 图型形成用组成物及图型形成方法;COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION, AND PATTERN-FORMING METHOD
摘要 本发明之目的系提供一种可一方面维持相分离时间及涂布性,一方面形成充分微细图型之图型形成用组成物。;本发明系一种图型形成用组成物,其特征系含有嵌段共聚物及及溶剂之图型形成用组成物,上述嵌段共聚物具有由含矽原子之第1重复单位所成之第1嵌段与由不含矽原子之第2重复单位所成之第2嵌段,且可藉由自我组织化而形成相分离构造,且上述第1重复单位含有2个以上之矽原子且构成之原子之原子量总和为700以下。上述第2嵌段较好系由未经取代或经取代之苯乙烯单位所成之聚苯乙烯嵌段或由(甲基)丙烯酸酯单位所成之聚(甲基)丙烯酸酯嵌段。
申请公布号 TW201536852 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW104103924 申请日期 2015.02.05
申请人 JSR股份有限公司 JSR CORPORATION 发明人 小松裕之 KOMATSU, HIROYUKI;成冈岳彦 NARUOKA, TAKEHIKO;峯岸信也 MINEGISHI, SHINYA;永井智树 NAGAI, TOMOKI
分类号 C08L53/00(2006.01);G03F7/004(2006.01) 主分类号 C08L53/00(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP