发明名称 图案形状评价方法、半导体装置的制造方法及图案形状评价装置
摘要
申请公布号 TWI502165 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW102144629 申请日期 2013.12.05
申请人 日立全球先端科技股份有限公司 发明人 福田宏
分类号 G01B15/04;H01J37/22;H01L21/66 主分类号 G01B15/04
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种图案形状评价方法,其特征系使下列的处理实行于计算机,由与立体的构造体形成于上面的基板的主面大致垂直的方向来照射收敛能量线,且使扫描于上述基板的上面,检测及/或测定从上述基板及上述构造体发生的2次能量线或藉由上述基板及上述构造体所被反射或散乱的能量线的强度,取得上述构造体的上面观察像之处理;对于上述上面观察像的上述强度的分布设定不同的复数的临界值,将藉由对于各临界值抽出复数的边缘点列所求得的倾斜角度θ设为上述复数的边缘点列的各边缘位置的倾斜角度θ之处理;及根据上述上面观察像的各点的倾斜角度分布的积分来推定上述构造体的立体形状之处理。
地址 日本