遮罩基底用基板、遮罩基底及转印用遮罩及该等之制造方法;MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, AND TRANSFER MASK AND METHODS OF MANUFACTURING THEM

摘要

一种遮罩基底用基板，系由具有两个主表面之基板所构成之遮罩基底用基板，该遮罩基底用基板形成有转印图案侧之该主表面在转印图案形成区域内之该主表面的表面形状使用白色干涉计以640×480之像素数条件来测量2.8mm×2.1mm之测量区域的情况，系具有由其测量结果所算出之空间频率1.0×10 -2 μm -1 之功率谱密度会为6.0×10 7 nm 4 以下之表面形状。