发明名称 193NM LASER AND INSPECTION SYSTEM
摘要 대략 193.4nm의 출력 파장을 발생시키는 레이저가, 기본파 레이저, 광학 파라메트릭 발생기, 제 4 고조파 발생기, 및 주파수 혼합 모듈을 포함한다. 기본파 레이저에 커플링되는 광학 파라메트릭 발생기는 하향 변환된 신호를 발생시킬 수 있다. 광학 파라메트릭 발생기 또는 기본파 레이저에 커플링될 수도 있는 제 4 고조파 발생기는 제 4 고조파를 발생시킬 수 있다. 광학 파라메트릭 발생기 및 제 4 고조파 발생기에 커플링되는 주파수 혼합 모듈은, 제 4 고조파와 하향 변환된 신호의 주파수의 2 배의 합과 동일한 주파수에서 레이저 출력을 발생시킬 수 있다.
申请公布号 KR20150109472(A) 申请公布日期 2015.10.01
申请号 KR20157022954 申请日期 2014.01.24
申请人 KLA-TENCOR CORPORATION 发明人 CHUANG YUNG HO ALEX;ARMSTRONG J. JOSEPH;DRIBINSKI VLADIMIR;DENG YUJUN;FIELDEN JOHN
分类号 H01S3/00;G01N21/84;G01N21/95;G01N21/956;H01S3/108 主分类号 H01S3/00
代理机构 代理人
主权项
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