| 发明名称 | 一种提高LD阵列泵浦光均匀性的装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种提高LD阵列泵浦光均匀性的装置，包括LD阵列、电光偏转器、聚焦透镜、激光介质和脉冲式驱动电源，所述LD阵列、电光偏转器、聚焦透镜和激光介质依次同光轴排列，所述电光偏转器与脉冲式驱动电源连接，所述激光介质的上能级寿命不低于100μs量级，本实用新型通过在电光偏转器上施加随时间周期性改变的电压，提高泵浦光的均匀性和激光介质的储能均匀性，结构简单，易于操作，适用性强。 | ||
| 申请公布号 | CN204680895U | 申请公布日期 | 2015.09.30 |
| 申请号 | CN201520422125.3 | 申请日期 | 2015.06.18 |
| 申请人 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 发明人 | 杨英;胡东霞;代万俊;袁强;张鑫;王德恩;赵军普;薛峤;张晓璐;周维;邓学伟;黄小霞 |
| 分类号 | H01S3/0933(2006.01)I;H01S3/101(2006.01)I;H01S3/10(2006.01)I | 主分类号 | H01S3/0933(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人 | 华冰 |
| 主权项 | 一种提高LD阵列泵浦光均匀性的装置，其特征在于，包括LD阵列、电光偏转器、聚焦透镜、激光介质和脉冲式驱动电源，所述LD阵列、电光偏转器、聚焦透镜和激光介质依次同光轴排列，所述电光偏转器与脉冲式驱动电源连接，所述激光介质的上能级寿命不低于100μs量级。 | ||
| 地址 | 621900 四川省绵阳市绵山路64号 | ||