| 发明名称 | 镀膜装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种镀膜装置，其构造成可以减少靶材间的污染的发生。该镀膜装置包括：多个靶材电极，其分别具有附连面，靶材能够附连于所述附连面；用于在与所述多个靶材电极相对的位置保持基板的基板支架；在所述多个靶材电极及所述基板支架之间可旋转地被设置且具有能够与所述附连面相对的多个开口的第一挡板构件；以及与所述第一挡板构件相邻地布置、且具有数量与所述靶材电极的数量相等的开口的遮蔽构件；其中，所述第一挡板构件及所述遮蔽构件之间的间隙从相邻的所述靶材电极的最靠近部朝向外周侧扩大。 | ||
| 申请公布号 | CN103635604B | 申请公布日期 | 2015.09.30 |
| 申请号 | CN201280031817.4 | 申请日期 | 2012.05.30 |
| 申请人 | 佳能安内华股份有限公司 | 发明人 | 梶原雄二;安松保志;小长和也 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 秦振 |
| 主权项 | 一种镀膜装置，包括：具有顶部(52)的真空容器(51)；附连至所述顶部的多个靶材电极，其分别具有附连面，靶材能够附连于所述附连面；用于在与所述多个靶材电极相对的位置保持基板的基板支架；在所述多个靶材电极及所述基板支架之间可旋转地被设置且具有能够与所述附连面相对的多个开口的第一挡板构件；以及与所述第一挡板构件相邻地布置、且具有数量与所述靶材电极的数量相等的开口的遮蔽构件，在所述顶部的内表面与遮蔽构件之间形成有空间；其中，所述第一挡板构件的上表面及所述遮蔽构件的下表面之间的间隙从相邻的所述靶材电极的最靠近部朝向所述第一挡板构件的外周侧扩大，且所述间隙从相邻的所述靶材电极的最靠近部朝向所述第一挡板构件的中心平滑且连续地变窄或变宽。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||