发明名称 |
用于高致密性石墨片的制备方法 |
摘要 |
本发明公开一种用于高致密性石墨片的制备方法,在聚酰亚胺薄膜的上、下表面分别涂覆石墨改性剂获得处理后的聚酰亚胺薄膜,处理后的聚酰亚胺薄膜由聚酰亚胺薄膜、第一涂覆层和第二涂覆层组成,石墨改性剂由以下重量份的组分组成:二苯甲酮四酸二酐21份、均苯四甲酸二酐15.5份、二氨基二苯甲烷24.5份、二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮、乙二醇、聚二甲基硅氧烷;在聚酰亚胺薄膜的上、下表面分别涂覆石墨改性剂获得处理后的聚酰亚胺薄膜。本发明在垂直方向和水平方向均提高了导热性能,避免局部过热,实现了导热性能的均匀性的同时,降低了共沸点并且平滑的沸点区,改善了最终产品成膜的平坦性和柔韧性。 |
申请公布号 |
CN104944416A |
申请公布日期 |
2015.09.30 |
申请号 |
CN201510285550.7 |
申请日期 |
2014.01.26 |
申请人 |
斯迪克新型材料(江苏)有限公司 |
发明人 |
金闯;杨晓明 |
分类号 |
C01B31/04(2006.01)I |
主分类号 |
C01B31/04(2006.01)I |
代理机构 |
苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 |
代理人 |
马明渡;王健 |
主权项 |
一种用于高致密性石墨片的制备方法,其特征在于:所述高致密性石墨片通过以下步骤获得:步骤一、在聚酰亚胺薄膜的上、下表面分别涂覆石墨改性剂获得处理后的聚酰亚胺薄膜,处理后的聚酰亚胺薄膜由聚酰亚胺薄膜、第一涂覆层和第二涂覆层组成;所述石墨改性剂由以下重量份的组分组成:二苯甲酮四酸二酐 21份,均苯四甲酸二酐 15.5份,二氨基二苯甲烷 24.5份,二甲基甲酰胺 21份,N‑甲基吡咯烷酮 8份,乙二醇 2.2份,聚二甲基硅氧烷 2.8份;步骤一、在聚酰亚胺薄膜的上、下表面分别涂覆石墨改性剂获得处理后的聚酰亚胺薄膜;步骤二、将处理后的聚酰亚胺薄膜升温至 1200 ℃ 后冷却,从而获得预烧制的碳化膜;步骤三、采用压延机压延所述步骤二的预烧制的碳化膜;步骤四、将碳化膜升温至2850 ℃~2950 ℃后冷却,从而获得主烧制的石墨膜;步骤五、然后将步骤四所得的主烧制的石墨膜进行压延从而获得所述高致密性石墨片。 |
地址 |
223900 江苏省宿迁市泗洪经济开发区衡山北路西侧 |