发明名称 STRAINED SILICON ON INSULATOR (SSOI) STRUCTURE WITH IMPROVED CRYSTALLINITY IN THE STRAINED SILICON LAYER
摘要
申请公布号 EP1911084(A1) 申请公布日期 2008.04.16
申请号 EP20060800728 申请日期 2006.08.01
申请人 MEMC ELECTRONIC MATERIALS, INC. 发明人 SEACRIST, MICHAEL, R.;FEI, LU
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
地址