发明名称 非破坏性检测线宽粗糙现象的方法
摘要 一种非破坏性检测线宽粗糙现象的方法。先提供一晶片,具有一测试键区域,其内设有多条格栅。接着,将该晶片置于光谱关键尺寸检测机台中,其配备有光源、侦检器及数据处理运算单元。使该光源所发射出的一极化光线,照射在该格栅上面,量测反射光线,将光谱数据储存在该数据处理运算单元内。将该光谱数据与一数据库进行比对分析,该数据库具有以接触洞模式建立的理论光谱数据,且该理论光谱数据含有描述不同线宽粗糙现象的参数。再将该光谱数据与数据库的各该理论光谱数据比对,找出最契合者,获得描述实际线宽粗糙度情形的该参数。
申请公布号 CN101145535A 申请公布日期 2008.03.19
申请号 CN200610127480.3 申请日期 2006.09.15
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 孙介伟;洪文凯;林思闽
分类号 H01L21/66(2006.01);G01B11/30(2006.01) 主分类号 H01L21/66(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波
主权项 1.一种非破坏性检测线宽粗糙现象的方法,包括:提供晶片,具有测试键区域,且在该测试键区域内设有多条格栅;将该晶片置于光学量测机台中,其至少配备有光源、侦检器以及数据处理运算单元;使该光源所发射出的极化光线,照射在该测试键区域内多条格栅上面;藉由该侦检器量测反射光线,并将所得到的光谱数据储存在该数据处理运算单元内;将所量测到的该光谱数据与连结该数据处理运算单元的数据库进行比对分析,其中该数据库具有多个利用接触洞模式所建立起来的理论光谱数据,且各该理论光谱数据包括有描述不同线宽粗糙现象情形的参数;以及将所量测到的该光谱数据与储存在该数据库中利用该接触洞模式计算产生的各该理论光谱数据比对,找出最契合的理论光谱数据,获得描述实际线宽粗糙度情形的该参数。
地址 中国台湾新竹科学工业园区