| 发明名称 | 一种用于三相浆态床反应器的气相介质分布器 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种流体分布器，设计了一种用于三相浆态床反应器的气相介质分布器。其特征在于，包括气体入口管(1)、气体导入管(2)、导气管(4)、多孔气体分配构件(5)和撞击底板(3)。与现有的技术相比，本实用新型的显著优点在于：通过分布器的阻力降来控制气速，气体在反应器内部形成内循环，可以有效地防止催化剂沉降、促进催化剂在反应器轴向分布均匀和改善塔内温度分布，能耗低，易于实现大型化。 | ||
| 申请公布号 | CN201036743Y | 申请公布日期 | 2008.03.19 |
| 申请号 | CN200720066902.0 | 申请日期 | 2007.01.31 |
| 申请人 | 华东理工大学 | 发明人 | 王亦飞;于遵宏;苏宜丰;于广锁;龚欣;王辅臣;刘海峰;王兴军;代正华;周志杰;陈雪莉;梁钦锋;李伟锋;郭晓镭 |
| 分类号 | B01J8/22(2006.01) | 主分类号 | B01J8/22(2006.01) |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所 | 代理人 | 余明伟 |
| 主权项 | 1.一种用于三相浆态床反应器的气相介质分布器，其特征在于，包括气体入口管(1)、气体导入管(2)、导气管(4)、多孔气体分配构件(5)和撞击底板(3)；所说的气体入口管(1)固定在反应器(10)的内壁，所说的气体导入管(2)设置在气体入口管(1)的下侧，并与气体入口管(1)相连通；所说的导气管(4)的一端与多孔气体分配构件(5)相连通，所说的多孔气体分配构件(5)上开有多个开口朝下的锐孔(7)，撞击底板(3)设置在多孔气体分配构件(5)的下方，以密封方式与反应器(10)的内壁相固定，撞击底板(3)与多孔气体分配构件(5)之间的空腔为撞击室(8)，撞击底板(3)与气体入口管(1)之间的空腔为气体缓冲室(9)导气管(4)的另一端穿过撞击底板(3)，与气体缓冲室(3)相连通。 | ||
| 地址 | 200237上海市徐汇区梅陇路130号 | ||