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发明名称 Wafer stage for removing metallic particle and method of removing the metallic particle
摘要
申请公布号 KR100807979(B1) 申请公布日期 2008.02.28
申请号 KR20050125638 申请日期 2005.12.19
申请人 发明人
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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