| 发明名称 | 改善高温淀积氧化膜的面内均匀性的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种改善高温淀积氧化膜的面内均匀性的方法，在使用石英环舟之前，对石英环舟进行刻蚀从而使其厚度变薄。本发明通过对石英环舟进行刻蚀，使得石英环舟的厚度变薄，然后采用这种变薄后的石英环舟制作的高温淀积氧化膜的面内均匀性就大大的得到改善。 | ||
| 申请公布号 | CN101117707A | 申请公布日期 | 2008.02.06 |
| 申请号 | CN200610029612.9 | 申请日期 | 2006.08.01 |
| 申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 方昭蒂;董颖;卢键 |
| 分类号 | C23C16/52(2006.01) | 主分类号 | C23C16/52(2006.01) |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人 | 顾继光 |
| 主权项 | 1.一种改善高温淀积氧化膜的面内均匀性的方法，其特征在于，在使用石英环舟之前，对石英环舟进行刻蚀从而使其厚度变薄。 | ||
| 地址 | 201206上海市浦东新区川桥路1188号 | ||