| 发明名称 | 一种直写制备聚合物光波导的装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种直写制备聚合物光波导的装置，其特征在于：气源通过气管与压力控制装置相连，压力控制装置通过施压气管与微细笔相连，用于控制施压气管中气流的通断和调节气压大小，并向微细笔的储料腔中的浆料提供所需的压力。采用本实用新型直写装置可以在已有的整体下包层上直写芯层，它具有工艺简单(不需要制作掩模－光刻等复杂的工艺)，设备造价低、效率高，制作周期短等特点。本实用新型便于将直写技术与现有的半导体工艺相容，如制备掩埋型的聚合物光波导器件的工艺与IC工艺相容，有利于实现光电器件的集成制造。 | ||
| 申请公布号 | CN201017057Y | 申请公布日期 | 2008.02.06 |
| 申请号 | CN200620163352.X | 申请日期 | 2006.12.01 |
| 申请人 | 华中科技大学 | 发明人 | 曾晓雁;王泽敏;李祥友;李金洪;董林红;朱大庆 |
| 分类号 | G02B6/10(2006.01);G02B6/13(2006.01) | 主分类号 | G02B6/10(2006.01) |
| 代理机构 | 华中科技大学专利中心 | 代理人 | 曹葆青 |
| 主权项 | 1.一种直写制备聚合物光波导的装置，其特征在于：气源(5)通过气管(6)与压力控制装置(7)相连，压力控制装置(7)通过施压气管(8)与微细笔(9)相连，用于控制施压气管(8)中气流的通断和调节气压大小，并向微细笔(9)的储料腔中的浆料提供所需的压力。 | ||
| 地址 | 430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 | ||