| 发明名称 |
一种自洁抗光反射结构物 |
| 摘要 |
本实用新型涉及一种自洁抗光反射结构物，其表面或物体具有凹凸结构，该凹凸的深度或高度为0.04～220微米，该凹凹、凸凸或凹凸之间的间距为0.04～120微米，该凹凸的侧面和/或顶底面的粗糙度小于5微米。 |
| 申请公布号 |
CN201017049Y |
申请公布日期 |
2008.02.06 |
| 申请号 |
CN200720095356.3 |
申请日期 |
2007.02.27 |
| 申请人 |
刘津平 |
发明人 |
刘津平;刘文韬 |
| 分类号 |
G02B5/00(2006.01);G02B1/00(2006.01) |
主分类号 |
G02B5/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
1.一种自洁抗光反射结构物，其表面或物体具有凹凸结构；其特征在于：该凹凸的深度或高度为0.04～220微米，该凹凹、凸凸或凹凸之间的间距为0.04～120微米，该凹凸的侧面和/或顶底面的粗糙度小于5微米。 |
| 地址 |
300052天津市和平区四平道信华南里2号楼4门101室 |
