发明名称 |
一种用于选择光记录装置最优写入参数的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于设置写入参数最优值的方法,所述写入参数最优值用在利用辐射束将信息写入光记录介质的光记录装置中。通过从多个曲线拟合函数中导出多个写入功率电平特征值(P<SUB>Char</SUB>)来找到写入参数最优值。每个写入功率电平特征值(P<SUB>Char</SUB>)具有相关联的写入功率电平(TV)初始值,并且通过比较写入功率电平特征值(P<SUB>Char</SUB>)和初始的写入功率电平来找到写入参数最优值。本发明还涉及一种光记录装置,用于在光记录介质上记录信息,该装置具有辐射光源,用于发射具有可控写入功率电平值的辐射束,用于在记录介质上记录信息。另外,本发明涉及一种利用辐射束照射记录介质来记录信息的光记录介质。 |
申请公布号 |
CN101088123A |
申请公布日期 |
2007.12.12 |
申请号 |
CN200580044749.5 |
申请日期 |
2005.12.20 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
M·凯帕 |
分类号 |
G11B7/125(2006.01);G11B7/0045(2006.01) |
主分类号 |
G11B7/125(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
李静岚;刘红 |
主权项 |
1、一种用于设置写入参数最优值的方法,写入参数最优值用在利用辐射束(5)将信息写入光记录介质(1)的光记录装置中,所述方法包括步骤:1)在记录介质上写入一系列测试图案,每个图案用辐射束的写入功率电平(P)的不同值写入,2)读出所述图案,以便形成对应的读取信号部分(18、19),以及3)从每个读取信号部分导出读取参数的值,4)将多个函数曲线拟合到相关联的所述读取参数值和所述写入功率电平(P)值,每个函数定义所述读取参数和所述写入功率电平(P)之间的关系,每个曲线拟合函数具有对应的写入功率电平初始值(Pini),5)从每个所述曲线拟合函数中导出对应的多个写入功率电平特征值(PChar),每个写入功率电平特征值(PChar)因此具有相关联的写入功率电平初始值(Pini),以及6)将所述多个写入功率电平初始值(Pini)和与其相关联的写入功率电平特征值(PChar)的每个值比较,从而设置写入参数最优值。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |