发明名称 |
用于无机表面的蚀刻糊 |
摘要 |
本发明涉及呈具有非牛顿流动性能的可印刷、均相、无颗粒的蚀刻糊形式的新型蚀刻介质,其用于蚀刻无机表面,尤其是玻璃,优选二氧化硅-和四氮化三硅基玻璃以及其他二氧化硅-和四氮化三硅基体系及其各层。本发明进一步涉及所述蚀刻介质的用途。 |
申请公布号 |
CN100343189C |
申请公布日期 |
2007.10.17 |
申请号 |
CN01808708.6 |
申请日期 |
2001.03.23 |
申请人 |
默克专利有限公司 |
发明人 |
S·克莱因;L·海德;C·杰林斯基;A·屈贝尔可;W·斯托库姆 |
分类号 |
C03C15/00(2006.01);C09K13/08(2006.01) |
主分类号 |
C03C15/00(2006.01) |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
刘金辉;林柏楠 |
主权项 |
1.一种具有非牛顿流动特性的可印刷、均相、无颗粒的蚀刻介质,其用于蚀刻玻璃表面,所述玻璃选自基于二氧化硅的玻璃和基于四氮化三硅的玻璃,其中所述蚀刻介质为具有非牛顿流动特性的蚀刻糊,该糊包含:a)至少一种用于玻璃表面的蚀刻组分,选自氟化物、二氟化物和四氟硼酸盐,其中蚀刻组分的存在浓度基于该介质的总量为5-15重量%,b)溶剂,和c)基于该蚀刻介质的总量为0.5-25重量%的增稠剂,选自纤维素/纤维素衍生物、淀粉/淀粉衍生物和/或基于丙烯酸酯或官能化乙烯基单元的聚合物,其中增稠剂不为黄原胶,甚至在15-50℃的温度下有效。 |
地址 |
德国达姆施塔特 |