| 发明名称 | 光学层叠体的制造方法和液晶显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于各种光学元件的光学层叠体的制造方法、通过所述制造方法得到的光学层叠体构成的椭圆偏振片或者圆偏振片及具备该椭圆偏振片或圆偏振片的液晶显示装置。通过本发明的制造方法，提供了层叠无支持基板的液晶物质层构成的光学元件，从而可以获得以往仅用高分子延伸薄膜难以获得的同时具有在光学特性上的高性能化和大幅度的超薄化的新光学层叠体。 | ||
| 申请公布号 | CN100343737C | 申请公布日期 | 2007.10.17 |
| 申请号 | CN200410039078.0 | 申请日期 | 2004.01.29 |
| 申请人 | 新日本石油株式会社 | 发明人 | 穗崎宪二;佐藤晴义 |
| 分类号 | G02F1/1335(2006.01);G02B5/30(2006.01);G02F1/1333(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1335(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰 |
| 主权项 | 1.光学层叠体的制造方法，其特征为，所述光学层叠体的制造方法至少经过如下工序：(1)将取向基板上形成的液晶取向被固定的液晶物质层1，通过接合剂层1接合在再剥离性基板1上，然后剥离取向基板，将液晶物质层1转写在再剥离性基板1上，得到由再剥离性基板1/接合剂层1/液晶物质层1构成的层叠体(A)的第1工序；(2)将取向基板上形成的液晶取向被固定的液晶物质层2，通过粘合剂或接合剂与所述液晶物质层1粘合，得到再剥离性基板1/接合剂层1/液晶物质层1/粘合剂层或接合剂层/液晶物质层2/取向基板构成的层叠体的第2工序；以及(3)剥离所述层叠体的再剥离性基板1和取向基板，在接合剂层1或液晶物质层2上贴合偏振片的第3工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||