发明名称 | 高密度空间光调制器 | ||
摘要 | 在一个实施例中,高密度空间光调制器(300)包括具有反射表面(404)的衬底(402)以及反射表面上的反射条带(304)。该条带(304)可以具有一个或多个开口,例如矩形狭缝(308)。该开口使光通过条带并且入射到反射表面上。使条带(304)朝衬底(402)偏转从而可以动态可控地使入射光的衍射。该空间光调制器像素比常规光调制器需要更小的空间,从而在可制造的器件尺寸内能够获得较大的像素数。还公开了其它实施例。 | ||
申请公布号 | CN1882865A | 申请公布日期 | 2006.12.20 |
申请号 | CN200480034254.X | 申请日期 | 2004.09.23 |
申请人 | 硅光机器公司 | 发明人 | J·I·特里斯纳迪;C·B·卡利斯尔 |
分类号 | G02B26/00(2006.01) | 主分类号 | G02B26/00(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 程天正;梁永 |
主权项 | 1.一种MEMS空间光调制器,包括:具有反射表面的衬底;反射表面上的条带,该条带具有反射表面,并且在中央部分还具有一个或多个开口以用于使光通过并且入射到反射表面上;其中可使该条带朝衬底偏转,以便按照可控方式衍射入射光。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |