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发明名称
Verfahren zur Herstellung einer Epitaxieschicht für erhöhte Drain-und Sourcegebiete durch Entfernen von Oberflächendefekten der anfänglichen Kristalloberfläche
摘要
申请公布号
DE102004031743(B4)
申请公布日期
2006.10.05
申请号
DE200410031743
申请日期
2004.06.30
申请人
ADVANCED MICRO DEVICES INC.
发明人
KAMMLER, THORSTEN;LUNING, SCOTT;BLACK, LINDA
分类号
H01L21/336
主分类号
H01L21/336
代理机构
代理人
主权项
地址
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