| 发明名称 | 光刻装置和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。 | ||
| 申请公布号 | CN1786832A | 申请公布日期 | 2006.06.14 |
| 申请号 | CN200510131051.9 | 申请日期 | 2005.12.07 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | P·R·M·亨努斯;J·J·S·M·梅坦斯;P·J·C·H·斯穆德斯;P·斯米特斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1.一种光刻投影装置，包括：配置成保持基底的基底台；附设有柔性凸出部的第一基底台部分；以及具有夹紧装置的第二基底台部分，该夹紧装置配置成吸引和保持凸出部的自由端，以便在第一部分和第二部分之间形成密封。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||