发明名称 Verfahren zur Strukturierung einer Photolackschicht
摘要
申请公布号 DE10054121(B4) 申请公布日期 2006.06.14
申请号 DE2000154121 申请日期 2000.10.31
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SEBALD, MICHAEL;RICHTER, ERNST
分类号 G03F7/38;G03F7/004 主分类号 G03F7/38
代理机构 代理人
主权项
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