发明名称 Method for manufacturing semiconductor device with improved gate collector critical dimension uniformity
摘要
申请公布号 KR100502098(B1) 申请公布日期 2005.07.20
申请号 KR20030006468 申请日期 2003.01.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/336;(IPC1-7):H01L21/336 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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