| 主权项 |
1. 化合物I之制法, 式中R1系被羟基或经保护之羟基所 取代之低级烷基; R2系末被取代或被低级烷基或 卤取代之毗咯-l-基;末被取代或 被低级烷基或胺低级烷基取代之毗唑 -l-基:末被取代或被低级烷基, 低级烷氧基,胺低级烷基,低级烷醯 胺低级烷基,胺羧基低级烷壤,胺低 级烷氧碳基低级烷基,碳低级烷基, 低级烷氧碳低级烷基,胺基甲醯低级 烷基,胺基甲醯氧低级烷基,羟低级 烷基,低级烷醯氧-低级烷基,卤低 级烷某,低级烷硫低级烷基,胺基或 硝基取代之咪唑基;未被取代或被低 级烷基取代之1,2,4-或1,3 ,4-三唑-1,基;未被取代或被 低级烷基、胺基或苯基取代之I-或 2,四唑基:PSI喋-1-基,苯并咪 唑-1-基,苯并三唑-1-基,I H-毗咯并(2,3-b)毗啶-1 -基,lH-l咪挫并(4,5-b) 毗啶,1-基或嘌呤-l-基; R3系羧基或在生理条件下可解 离之酯化羧基,如低级烷醯氧甲氧漩 基或l-低级烷氧拔氧低级烷氧碳基 者; 及制造化合物I之光学异构物, 此等光学异构物之混合物,以及具有 盐形成基之化合物I之监之方法,其 特征为: (a)使炔化物11于30--160C温度范 围,合适惰性溶剂下进行环化;必 要时,于惰性气体下进行 式中R1及R2,如式I中所述,R3 系被保护之羧基,z系氧或硫, x系三取代锈基或配合阳离子之 二酯化亚磷羧基;或 (b)以二价r;dsF.之有机化合物于zo。~ 8oc温度范W4,惰性溶剂下处理化 合物皿, 式中R1及R2如示1所述,Z如 式I中所述,R3系被保护之羧基 ;或 (c)以能引入R2基之化合物于约-50 C-约十5OC温度范围,Ifig!存在之 惰性溶剂下处理化合物X, 式中R1如式1中所述,R3,系 被保护之羧基,Y系利用亲核反应 可被置放之基: 必要时,可使所得化合物I式中 R1上之被保护羟基转变成自由羟 基,及/或必要时,可付所得化合 物1式被保护之羧基R3)转变成自 由羧基,或在生理条件下可解种之 酯化羧基,或转变成不同的被保护 之羧基R3,或使自由羧基R3 转变 成在生理条件下可解离之酯化羧基 ,或被保护之羧基R3'及/或必要 时,便在R2上之其他被保护之官 能基转变成自由官能基,及/或必 要时,使所得化合物I式中比 基 转变成不同之R2,及/或必要时, 使所得具有盐形成基之化合物转变 成盐,或使所得盐转变成不同的盐 ,及/或必要时,使所得异构物混 合体分离成各别的异构物。2.根据申请专利范围 第1.项之制法,羞 物为化合物I,式中R,系羟甲基或 Z-羟乙基;R,系末被取代或被低 级烷基,低级烷氧基,胺基,胺低级 烷基取代之毗咯-I-基,咪唑-I -基;未被取代或被低级烷基或胺低 级烷基取代之毗唑-1-基;末被取 代或被胺基取代之21,2,4-三唑 -I-基或四唑-l-基;R,系羟 基或在生理条件下可解离之酯化羧基 ,如低级烷醯氧甲氧碳基或I-低级 烷氧搬氧低级烷氧碳基老,及式中 R,系I-羟乙基之化合物I之光学 异构物,尤指(1R)-异构物,此 等光学异构物之混合物以及化合物1 之监。3.根据申请专利范围第1.项之制法,产 物为化合物I,式中R,系烃甲基或 (lR)-1-烃乙基;R,系末被 取代或被低级烷基,胺低级烷基取代 之咪唑-I-基;比 系竣基,或在 生理条件下可解离之酯化梭基,如低 级烷醮氧甲氧碳基或l-低级烷氧漱 氧低级烷氧羰基老,及化合物I之盐4.根据申请专利 范围第1.项之制法,产 物为化合物I之药理许可盐。5.根据申请专利范围 第「项之制法,产 物为在生理条件下可解离之化合物I 之酯。 6 .根据申请专利范围第1.项之制法,产 物为(5R,65)-2-(咪唑- l-基>-6-烃甲基-2-潘I- 3-竣酸及其药理许可盐。 7. 根据申请专利范围第1.项之制法,产 物为(5R,65)-2-(咪哩- I-基)-6-[(l'R)-1-烃 乙基1-2-潘灵-3-竣酸及其药 理许可之盐。 8.根据申请专利范围第1.项之制法,产 物为(5R,65)-2-(4-甲 基咪哩-1-基)-6-羟甲基-2 -潘灵-3-竣酸及其药理许可盐。 少根据申请专利范围第1.项之制法,产 物为(5R,65)-2-(4,5 -二甲基咪挫-I-基)-6-烃甲 基-2-潘灵-3-竣酸及其药理许 可盐。 10.根据申请专利范圈第1.项之制法,产 物为(5R,65)-2-(4-( 2-胺乙基)咪挫-1-基1-6- 挫甲基-2-潘灵-3-竣酸及其药 理许可盐。 11. 根据申请专利范围第1.项之制法,产 物为(5R,65)-2-I4-甲 氧咪挫-1-基)-6-烃甲基-2 -潘灵-3-竣酸及其药理许可盐。 12.根据申请专利范围第1.项之制法,产 物为(5R,65)-2-14-胺 甲基咪唑-l。基)-6-羟甲基- 2-潘灵-3.羧酸及其药理许可盐 13.根棣申请专利范围第1.项之制法,羞 物为化合物I,选自 一(5R,65)-2-(1, 2,4-三唑-l-基)-6-羟甲 基-2-潘灵-3-羧酸, 一(5R,65)-2-(毗唑 -l-基)-6-羟甲基-2-潘灵 -3-羧酸, 一(5R.65)-2-(毗挫 -1-基)-6.羟甲基-2-潘灵 -3-羧酸及 一(5R,65)-2-(4- 甲基毗唑-1-基)-6-@羟甲基- 2-潘灵-3-羧酸。 14. 根据申谓专利范围第1.之制法,产 物为(5R,65)-2-(咪唑- l-基)-6-[(「R)-1-羟 乙基)-2.潘灵-3。羧酸乙醯氧 甲酯。 15.本药剂系由第1.项之化合物I或其药 理许可盐和药剂携体组成老。 16.化合物I: 式中R1系在a-位置被羟基取代之 低级烷基; R2系未被取代或被低级烷基或 卤取代之毗咯-1-基;末被取代或 被低级烷基或胺低级烷基取代之毗唑 -I-基;未被取代或被低级烷基, 低级烷氧基,胺低级烷基,低级烷醯 胺低级烷基,胺羧基低级烷基,胺低 级烷氧碳基低级烷基,碳低级烷基, 低级烷氧撮低级烷基,胺基甲醯低级 烷基,胺华甲醯氧低级烷基,羟低级 烷基,低级烷醯氧-低级烷基,卤低 级烷基,低级烷硫低级烷基,胺基或 硝基取代之咪唑基;未被取代或被低 级烷基取代之1,2,4-或1,3 ,4-三唑-1-基;末被取代或被 低级烷基、胺基或苯基取代之I-或 2 -四唑基:PSI喋-1-基,苯并咪 唑-1-基,苯并三唑-l-基,I H-毗咯并(2.3-b)毗PX-1 -基,lH-咪唑并(4,5-b) 毗啶-l-基或呤嘌-1-基; R3系羧基或在生理条件下可解 离之酯化羧基,如低级烷醯氧甲氧碳 基或1-低级烷氧碳氧低级烷氧碳基 者,及化合物I之光学异构物,此等 光学异构物之混合物及具有盐形成基 之化合物I之盐。 17.根据申请专利范围第16.项之化合物I ,式中R,系羟甲基或1-羟乙基; R1系末被取代或被低级烷基,低级" 烷氧基,胺基,胺低级烷基取代之毗 咯-I-基,咪唑-l-基;末被取 代或被低级烷基或胺低级烷基取代之 毗唑-1-基;末被取代或被胺基取 代之1.2.4-三唑-l-基或四 唑-I-基f比 系羧基或在生理条 件下可解离之酯化羧基,如低级烷醯 氧甲氧碳基或l-低级烷氧漩氧低级 烷氧漩基老,及式中R,系l-羟乙 基之化合物I之光学异构物,尤指( l R)-异构物,此等光学异构物之 混合物口及化合物I之盐。 18.根据申请专利范围第16.项之化合物1 ,式中R1系羟甲基或(IR)-I - 羟乙基;R2系末被取代或被低级 烷基,胺低级烷基取代之咪唑-Z- 基;R3系羧基,或在生理条件下可 解离之酯化羧基,如低级烷醯、氧甲 氧碳基或1-低级烷氧碳氧低级烷氧 漩 基老,及化合物I之盐。 19.根据申请专利范围第16.项之化合物I 之药理许可盐。 20.根据申请专利范围第16.项之在生理条 件下可解离之化合物1之酯。 21.根据申请专利范围第16.项之(SR, 65)-2-(咪唑-l-基)-6 -羟甲基-2-潘灵-3-羧酸及其 药理许可盐。 22.根据申请专利范围第16.项之(SR, 65)-2-(咪唑-l-基)-6 -I(lPR)-1-羟乙基)-2 -潘灵-3-羧酸及其药理许可之盐 23.根据申请专利范围第16.项之(SR, 65)-2-(4-甲基咪唑-I- 基)-6-羟甲基-2-潘灵-3- 羧酸及其药理许可盐。 24.根据申请专利范围第16.项之(SR, 65)-2。(4,5-二甲基咪唑 -I-基)-6-羟甲基-2-潘灵 -3-羧酸及其药理许可盐。 25.根据申请专利范围第16.项之(SR, 65)-2-14。(2-胺乙基) 咪唑-1-基1-6-羟甲基-2- 潘灵-3-羧盐及其药理许可盐。 26.根据申请专利范围第16.项之(SR, 65)-2-[4-甲氧咪唑-I- 基)-6-羟甲基-2-潘灵-3- 羧盐及其药理许可盐。 27.根据田请专利范围第16.项之(5R, 65)-2-C4-胺甲基咪唑-l -基1-6-羟甲基-2-潘灵-3 -羧酸及其药理许可盐。 %.根据申请专利范围第16.项之化合物I ,选自 一(5R,65)-2-(1, 2,4-三唑-I.基)-6-羟甲 基-2-潘灵-3,羧酸, 一(5R,65)-2.(毗唑 -l-基)-6-羟甲基-2-潘灵 -3-羧酸, 一(5R,65)-2.-(毗唑 -l-基)-6-羟甲基-2-潘灵 -3-羧酸及 一(5R.65).2-(4- 甲基毗唑-1-基)-6-羟甲基- 2-潘灵-3-羧酸。 29.根据申请专利范围第16.项之(5R, 6S)-2-(咪唑-1-基)-6 -I(1R)-1-羟乙基)-2- 潘灵-3-羧f羧酸乙醯氧甲酯。 30.包含申请专利范围第16.项式I化合物 之药剂组成物。 31.使用申请专利范围第16.项式I化合物 来治疗细菌传染。 |
