| 主权项 |
1.制造化合物Ⅰ之方法: 式中环A未被取代或被低级烷基,羟 基,低级烷氧基或卤素所单取代者; R1及R2各自独立,系氢,低级烷基 或如环A般地单取代或未取代之苯基 ,或R1及R2一起代表低级烷撑;Y 系甲撑、氧、硫、亚磺醯或磺醯;X 系两价-S-C[-B-(Z)n)= CH-,其中硫基S直接连在双环系 统之-或-位置;B系直接键, (C1-C4)烷撑或(C2-C4)- 烯撑;n系l及Z系羧基,C1-C10 -烷氧碳基,胺基甲醯基,低级烷基 -胺基甲醯,苯基-低级烷氧羧基, 胺基-胺基甲醯,氰基,5-四唑基 ,甲醯基;被羟基或低级烷醯氧取代 之亚胺甲基;烃基,C1-C20-烷 醯氧基,胺基或卤-低级烷醯胺基; 但是 -若R2系氢,Y系甲撑,X系 ()-S-C(-Z)=CH-() (式中Z系羧基或如上定义之官能改 质之羧基)则R1系如上定义地被取 代或未取代之苯基; -若R1及R2均为氢,Y系氧或 硫及X系()-S-C(-COOH) =CH-(),则环A系如上所定义 之被取代者,及 -若R1及R2均为氢;X系( )-S-C(-Z)=CH-()(式 中Z系羧基,乙氧羰基,氰基,或甲 醯),环A未被取代,或在7-位置 被甲氧所单取代,则Y系氧,硫,亚 磺醯或磺醯; 或其互变体,立体异构物或其光 学异构物,或光学异构物之混合体; 及其药理可接受盐;其包括: (a)为制得式中B系直接键,Z系羧基 ,C1-C10-烷氧羰基,胺基甲醯 者,低级烷基-胺基甲醯,苯基- 低级烷氧羰基,卤-苯基-低级烷 氧碳基,胺基-胺基甲醯,氰基, 5-四唑基,甲醯基,或被羟基或 低级烷醯氧取代之亚胺甲基,使式 Ⅱ化合物 (式中X1及X2之一系分离基,另 一为自由或官能改质之甲醯),和 式Ⅲ化合物或其硷金属巯盐反应而 得: HS-CH2-Z (Ⅲ) Z系如上定义者,或 (a')为制得式中B系烷撑或烯撑 ,乙系如前面式Ⅰ中所述, 或B系直接键,Z系羧基, C1-C10-烷氧羰基,胺基 甲醯基,低级烷基-胺基甲 醯,苯基-低级烷氧羰基, 卤-苯基-烷氧羰基,胺基 -胺基甲醯,氰基,5-四 唑基,甲醯基或被羟基或低 级烷醯氧取代之亚胺甲基之 式Ⅰ化合物,可将式Ⅱ化合 物(如上定义者)和式Ⅲa 化合物或其硷金属巯盐反应 而得: 式中Z及n如式Ⅰ中所述, L系能活化邻接之CH以便 和式Ⅱ之自由或改质之甲醯 X1或X2反应之基,然后经 一项或多项之连续反应步骤 后,可在反应条件下分裂者 。 (b)由化合物Ⅳ (式中X1系两价-S-C[-M]= CH-,其中硫基直接连在双环系 统之-或-位置),使式中可 转变成-B-(Z)n之M转变成 -B-(Z)n; 必要时,使所得之化合物Ⅰ可 转变成不同之化合物Ⅰ,及/或使 所得之盐转变成自由化合物或不同 之盐,及/或使所得之具有盐形成 基之自由化合物Ⅰ转变成盐,及/ 或使所得之立体异构物混合体或光 学异构物混合体分离成个别之立体 异构物,光学异构物或对映体混合 物,及/或使所得对映体混合物, 如消旋物分裂成光学异构物。2.根据申请专利范 围第1.项之制法,制 造产物特征为式中环A未被取代或被低 级烷基,羟基,低级烷氧基或卤素所 单取代者;R1及R2各自独立,系氢 ,低级烷基,苯基或烃基-苯基,或 R1及R2一起代表低级烷撑,Y系甲 撑、氧或硫,X系两价-S-C[-B -(Z)n]=CH-,其中硫基S直 接连在双环系统之-位置,B系直 接键,(C1-C4)烷撑或(C2- C4)烯撑;n系1,及 Z系羧基,C1-C8-烷氧碳基 ,胺基甲醯基,低级烷基胺基甲醯基 ,苯基-低级烷氧碳基,卤-苯基- 低级烷氧碳基,胺基-胺基甲醯基, 氰基,5-四唑基,甲醯基,被羟基 或低级烷醯氧基取代之亚胺甲基;羟 基,C1-C16-烷醯氧基,胺基或 卤-低级烷醯胺基,之式Ⅰ化合物; 但是 -若R2系氢,Y系甲撑,X系 ()-S-C(-Z)=CH-() (式中Z系羧基或如上定义之官能改 质之羧基)则R1为苯基或羟基-苯 基; -若R1及R2均为氢,Y系氧或 硫及X系()-S-C(-COOH) =CH-(),则环A系如上所定义 之被取代者,及 -若R1及R2均为氢;X系( )-S-C(-Z)=CH-()(式 中Z系羧基,乙氧羰基,氰基或甲醯 ),环A未被取代,或在7-位置被 甲氧所单取代,则Y系氧,硫; 或其互变体,立体异构物或其光 学异构物,或光学异构物之混合体; 及其药理许可盐。3.根据申请专利范围第1.项之制 法,制 造产物特征为式中环A未被取代,或 被低级烷基、低级烷氧基或卤所单取 代;R1系苯基,R2系卤,Y系甲撑 ,氧或硫;X系两价-S-C[-B- (Z)n]=CH-,其中硫基直接在 双环系统的-或-位置;B系直 接键,C1-4烷撑或C2-4烯撑;n系 1;Z系羧基,C1-8烷氧羰基,胺 基甲醯,低级烷胺基甲醯,胺-胺基 甲醯,氰基,5-四唑基,甲醯基, 被羟基或低级烷醯氧基取代之亚胺甲 基,羟基,C1-16烷醯氧基,或胺基 ,之式Ⅰ化合物,或其互变体,立体 异构物或光学异构物,或光学异构物 混合体;及其药理许可盐。4.根据申请专利范围第1 .项之制法,制 造产物特征为式中环A未被取代,或 被低级烷基、低级烷氧基或卤所单取 代;R1系苯基,R2系卤,Y系甲撑 ,氧或硫;X系两价-S-C[-B-( Z)n)=CH-,其中硫基直接在双 环系统的-位置;Z系羧基C1-8 -烷氧羰基,胺基甲醯基,低级烷胺 基甲醯基,氰基,5-四唑基或羟甲 基之式Ⅰ化合物;或其互变体,立体 异构物或光学异构物,或光学异构物 混合体;以及其药理许可盐。5.根据申请专利范围 第1.项之制法,制 造特征为4H-4-苯- 嗯并[3 ,2-c][1]苯并 喃-2-羧 酸乙酯。6.根据申请专利范围第1.项之制法,制 造特征为4H-4-苯- 嗯并[3 ,2-c][1]苯并 喃-2-羧 酸或其药理许可盐。7.根据申请专利范围第1.项之 制法,制 造特征为4H-2-羧醯胺-4-苯 - 嗯并[3,2-c][1]苯并 喃。8.根据申请专利范围第1.项之制法,制 造特征为N-甲基-4H-2-羧醯 胺-4-苯- 嗯并[3,2-c] [1]苯并 喃。9.制造4,5-二氢-5-甲基-2- 羧醯胺 并[1,2-b] 吩之方 法,其特征为完全按照第1.项之步骤 。10.一种药剂之制法,其特征为调配第1. 项之化合物Ⅰ或其药理许可盐以及药 剂携体。11.式Ⅰ之化合物 其中环A未被取代或被低级烷基,羟 基,低级烷氧基或卤素所单取代者; R1及R2各自独立,系氢,低级烷基 或如环A般地单取代或未取代之苯基 ,或R1及R2一起代表低级烷撑;Y 系甲撑、氧、硫、亚磺醯或磺醯;X 系两价-S-C[-B-(Z)n=CH- ,其中硫基S直接连在双环系统之 -或-位置;B系直接键,( C1-C4)烷撑或(C2-C4)-烯 撑;n系1及Z系羧基,C1-C10- 烷氧羰基,胺基甲腌基,低级烷基- 胺基甲醯,苯基-低级烷氧羰基,胺 基-胺基甲醯,氰基,5-四唑基, 甲醯基;被羟基或低级烷醯氧取代之 亚胺甲基;羟基,C1-C20-烷醯 氧基,胺基或卤-低级烷醯胺基;但 是 ,双-低级烷胺基,低级烷醯胺 基,卤-低烷醯胺基或卤素;但是 -若R2系氢,Y系甲撑,X系 ()-S-C(-Z)=CH-()( 式中Z系羧基或如上定义之官能改质 之羧基)则R1系如上定义地被取代 或未取代之苯基; -若R1及R2均为氢,Y系氧或 硫及X系()-S-C(-COOH) =CH-(),则环A系如上所定义 之被取代者,及 -若R1及R2均为氢;X系( )-S-C(-Z)=CH-()(式 中Z系羧基,乙氧羰基,氰基,或甲 醯),环A未被取代,或在7-位置 被甲氧所单取代,则Y系氧,硫,亚 磺醯或磺醯; 或其互变体,立体异构物或其光 学异构物,或光学异构物之混合体; 及其药理可接受盐。12.根据申请专利范围第11.项 式Ⅰ之化合 物,其中环A未被取代或被低级烷基 ,羟基,低级烷氧基或卤素所单取代 者;R1及R2各自独立,系氢,低级 烷基,苯基或羟基-苯基,或R1及 R2一起代表低级烷撑,Y系甲撑、 氧或硫,X系两价-S-C[-B-( Z)n]=CH-,其中硫基S直接连 在双环系统之-位置,B系直接键 ,(C1-C4)烷撑或(C2-C4) 烯撑;n系1,及 Z系羧基,C1-C8-烷氧羰基 ,胺基甲醯基,低级烷基胺基甲醯基 ,苯基-低级烷氧羰基,卤-苯基- 低级烷氧羰基,胺基-胺基甲醯基, 氰基,5-四唑基,甲醯基,被羟基 或低级烷醯氧基取代之亚胺甲基;羟 基,C1-C16-烷醯氧基,胺基或 卤-低级烷醯胺基,之式Ⅰ化合物; 但是 -若R2系氢,Y系甲撑,X系 ()-S-C(-Z)=CH-() (式中Z系羧基或如上定义之官能改 质之羧基)则R1为苯基或羟基-苯 基; -若R1及R2均为氢,Y系氧或 硫及X系()-S-C(-COOH)= CH-(),则环A系如上所定义之 被取代者,及 -若R1及R2均为氢;X系( )-S-C(-Z)=CH-()(式 中Z系羧基,乙氧羰基,氰基或甲醯 ),环A未被取代,或在7-位置被 甲氧所单取代,则Y系氧,硫; 或其互变体,立体异构物或其光 学异构物,或光学异构物之混合体; 及其药理许可盐。13.根据申请专利范围第11.项式 Ⅰ之化合 物,其中环A未被取代,或被低级烷 基、低级烷氧基或卤所单取代;R1 系苯基,R2系卤,Y系甲撑,氧或 硫;X系两价-S-C[-B-(Z)n ]=CH-,其中硫基直接在双环系 统的-或-位置;B系直接键, C1-4烷撑或C2-4烯撑;n系1;Z 系羧基,C1-8烷氧羰基,胺基甲醯 基,低级烷胺基甲醯,胺-胺基甲醯 ,氰基,5-四唑基,甲醯,被羟基 或低级烷醯氧基取代之亚胺甲基,羟 基,C1-16烷醯氧基,或胺基,之式 Ⅰ化合物,或其互变体,立体异构物 或光学异构物,或光学异构物混合体 ;及其药理许可盐。14.根据申请专利范围第11.项式 Ⅰ之化合 物,其中环A未被取代,或被低级烷 基、低级烷氧基或卤所单取代;R1 系苯基,R2系卤,Y系甲撑,氧或 硫;X系两价-S-C[-B-(Z)n ]=CH-,其中硫基直接在双环系 统的-位置;Z系羧基C1-8-烷 氧羰基,胺基甲醯基,低级烷胺基甲 醯基,氰基,5-四唑基或羟甲基之 式Ⅰ化合物;或其互变体,立体异构 物或光学异构物,或光学异构物混合 体;以及其药理许可盐。15.根据申请专利范围第11. 项为4H-4 -苯- 嗯并[3,2-c][1] 苯并 喃-2-羧酸乙酯之化合物。16.根据申请专利范 围第11.项为4H-4 -苯 嗯并[3,2-c][1]苯 并 喃-2-羧酸或其药理许可盐之 化合物。17.根据申请专利范围第11.项为4H-2 -羧醯胺-4-苯- 嗯并[3,2 -c][1]苯并 喃之化合物。18.根据申请专利范围第11. 项为N-甲基 -4H-2-羧醯胺-4-苯- 嗯 并[3,2-c][1]苯并 喃之 化合物。19.4,5-二氢-5-甲基-2-羧醯 胺 并[1,2-b] 吩。20.包含根据申请专利范围第11.项 之式Ⅰ 化合物再配加药理许可盐所构成之药 剂制剂。21.一种治疗哺乳动物之呼吸道疾病的组 成物,其包括治疗有效量的申请专利 范围第11.项式Ⅰ化合物或其药理许可 盐。22.一种含有乙基(4,5-二氢-8- 氟- [1,2-b] 吩)-2- 羧酸盐的药剂组成物。23.一种含有4,5-二氢-8-氟- [1,2-b] 吩-2-羧酸或其 药理许可盐的药剂组成物。24.一种含有4,5-二氢-2- 羧醯胺 - [1,2-b] 吩的药理组成 物。25.一种含有4,5-二氢-8-氟-2 -羧醯胺- [1,2-b] 吩的 药理组成物。26.一种含有4,5-二氢-5-甲基- 2-羧醯胺- [1,2-b] 吩 的药理组成物。 |
