| 主权项 |
1.在光石印法中,改善使用二层光阻时 因顶层光阻图形的轮廓及厚度的改变 而导致的不完全解析,此改善包括在 曝露二层光阻以模造UV光之先,使 用光漂白薄膜于光阻层之顶层。因此 ,减低变化和因顶层光阻层曝光而得 之可移动相似积体电路中分子排列的 厚度且改善由连续曝光及低光阻层之 展延而得仿造光阻浮雏的解析度。2.加请求专利 部份第1.项的方法,其中 二层光阻包括聚甲基异丁烯酸酯涂覆 酚醛清漆树脂。3.依请求专利部份第1.项所请的方 法, 其中光漂白薄膜包括芳基乙醛羧二羟 胺和惰性有机聚合体固着物。4.依请求专利部份 第3.项所请,其中光 漂白薄膜为一(4 - 二乙胺苯基) 一N一苯基乙酵羧二羟胺和苯乙烯/ 丙烯醇共聚物。5.依请求专利部份第2.项所请,其 中聚 甲基异丁烯酸酯层包含右效量的甲基 (P - 二乙胺基--一氰基)一肉桂 酸的1,3一丙二醇二酯。 |
