发明名称 高对比低金属离子光阻物显影法及组合物
摘要 本发明提供用于能提供高对比影像及长显影浴寿命之二个步骤方法中,之新颖低金属离子显影组合物。此种方法能产生高对比影像。经以正光阻物涂布之基质曝光后,浸入一〝预浸〞沿中漂洗,然后再浸入显影浴中漂洗,再乾燥之。此种方法提供高对比影像,且此种高对比特性不致随显影系统之使用时间而降低。此系统包括:(1)含非金属离子有机硷类及阳离子介面活性剂之水溶液,其并调整至不致产生显影之浓度,及(2)含非金属离子有机硷类及含氟化合物介面活性剂水溶液之显影液,其调整至能产三显影之浓度。由于阳离子介面活性剂覆盖于光阻物上,故当以显影液溶去光阻物时,其能抑制显影液侵袭未曝光之光阻物而达到高对比影像之效果。
申请公布号 TW126708 申请公布日期 1990.01.11
申请号 TW076102717 申请日期 1987.05.14
申请人 米可西股份有限公司 发明人 安朱.约瑟夫.布来肯尼;詹姆士.马文.李文斯
分类号 G03F7/39 主分类号 G03F7/39
代理机构 代理人 林光贤 台北巿敦化南路一段二九四号九○一室
主权项 1.一种将正光敏感性光阻物薄膜显影之方法,薄膜含有重氮磺酸 衍生物及硷溶性树脂涂布于基质上,其曝露于光线能形成表面释离图案,所述方法包括:(a)将已曝光之薄膜与含有机硷类水溶液及阳离子介面活性剂之溶液接触;有机硷类水溶液须调整至不致将光阻物显影之浓度,而阳离子界面活性剂之用量约为总溶液重量之0.0001 至1.0%,约0.001至0.75%时尤佳,0.01至0.25%时最佳;(b)将所述薄膜经水漂洗,及(c)将所述薄膜与PH値至少9以上且含碳氟化合物界面活性剂之有机硷类显影水溶液接触,直至薄膜曝光部份溶解为止;所述碳氟化合物界面活性剂含量约为显影液重量之0.0001至5%,0.001至2%时更佳,且其具有如下化学式:Rf-Y-(CH2CH2O)mR式中Y为选自-CH2CH2O-,-SO2NR'-,SO2N(R')CH2CO22-,-CO2及-CO-NR'-等之基团;R1为化学式CPF2P+1(P为3至17之整数)之直链或支链;R为氢或1至30个碳原子之醯基或烷基;而m为2至26之整数,惟以5至26之整数为较佳;R'为氢或1至6个碳原子之烷基。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(a)中之有机硷类为氢氧化四甲基铵。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(a)中之有机硷类为氢氧化(2-羟乙基)二甲基铵。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(a)中之阳离子界面活性剂包括具有下列化学式之化合物:其中R3为2至6个碳之环状基,环状基上并有0至3个选自氧、氮、硫基之不同原子,规定每一不同之原子均不彼此连结或连结至季氮;R1为6至20个碳原子之之饱和和不饱和直链或支链碳氢化合物链;R2与R1相同,但其碳数为1至120,X可为C1-,I-,Br-,CH3SO4-,或CH3CH2SO4-。5.依据申请专利范围第4项之方法,其中步骤(a)中之阳离子界面活性剂包括:6.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(a)中之阳离子界面活性剂选自具有下列化学式之化合物:式中R1及R2与上述者相同;R3为1至4个碳原子间之烷基;及R4为1至4个碳之饱和或不饱和直链(或支链)之碳氢化合物链,R4或可为其中烷基部份具有至3个碳之苯烯基。7.根据申请专利范围第6项之方法,其中步骤(a)中之阳离子界面活性剂包括:8.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(a)中之阳离子界面活性剂包括选自具有下列化学式之化合物:式中R1,R2及R3以上已有描述;R4为含1至4个季铵基-(N+R5R6R7)之饱和或不饱和直或支链碳氢化合物链,其中R5为1至20个碳之饱和或不饱和直或支链碳氢化合物链,R6及R7为相同或不相同之1至4个碳原子烷基;9.根据申请专利范围第8项之方法,其中步骤(a)中之阳离子界面活性剂包括:10.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(a)中之阳离子界面活性剂包括选自具有下列化学式之化合物:在此R为衍生自椰子油之碳氢化合物链,R1及R2为含1至4个碳之羟烷基。11.根据申请专利范围第10项之方法,其中步骤(a)中之阳离子界面活性剂包括:12.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF22)6-CH2CH2O-(CH2CH2O)4H。13.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(c)中之有机硷类为氢氧化四甲基铵。14.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(c)中之有机硷类为氢氧化(2-羟乙基)三甲基铵。15.根据申请专利范围第4项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化四甲基铵;及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH22CH2O)4H。16.根据申请专利范围第5项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化四甲基铵;及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH22CH2O)4H。17.根据申请专利范围第6项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化四甲基铵;及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH22CH2O)4H。18.根据申请专利范围第7项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化四甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH22CH2O)4H。19.根据申请专利范围第8项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化四甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH22CH2O)4H。20.根据申请专利范围第9项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化四甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH22CH2O)4H。21.根据申请专利范围第10项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化四甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH22CH2O)4H。22.根据申请专利范围第11项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化四甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH22CH2O)4H。23.根据申请专利范围第4项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化(2-羟乙基)三甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH2CH2O)4H。24.根据申请专利范围第5项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化(2-羟乙基)三甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH2CH2O)4H。25.根据申请专利范围第6项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化(2-羟乙基)三甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH2CH2O)4H。26.根据申请专利范围第7项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化(2-羟乙基)三甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH3O-(CH2CH2O)4H。27.根据申请专利范围第8项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化(2-羟乙基)三甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH2CH2O)4H。28.根据申请专利范围第9项之方法,其中步骤(a)及(c)中之有机硷类为氢氧化(2-羟乙基)三甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH2CH2O)4H。29.根据申请专利范围第10项之方法,其中步骤(a)及(中之有机硷类为氢氧化(2一羟乙基)三甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH2CH2O)4H。30.根据申请专利范围第11项之方法,其中步骤(a)及(.)中之有机硷类为氢氧化(2一羟乙基)二甲基铵,及步骤(c)中之界面活性剂为CF3(CF2)6-CH2CH2O-(CH2CH2O)4H。
地址 美国