| 主权项 |
1.通式Ⅰ化合物: 其中R代表氢原子、C1-4烷基羰基,苯 基羰基,硷金属离子或未经取代或经取代 之铵离子; R1代表C1-6烷基或苄基; R2代表C1-4烷基、C2-6烯基或C 2-6卤烯基; 各R3代表C1-4烷基;及 R4或R5之一代表氢原子而R4与R5之另 一代表未经取代或经一或更多相同或不同 之选自卤素原子、C1-4烷基、C1-4烷氧 基、C1-4次烷基二氧基及N-(单或二 C1-4烷基)磺醯胺基之取代基取代之苯 基; 或其互变异构物。2.根据申请专利范围第1项之化 合物,其中 R代表氢原子。3.根据申请专利范围第1项之化合物 ,其中 R1代表C1-4烷基。4.根据申请专利范围第1项之化合 物,其中 R2代表C2-6烯基(可任意被卤素原子取 代)。5.根据申请专利范围第1项之化合物,其中 R4与R5之一代表氢原子且R4与R5之另 一代表任意被1-3个选自卤素原子、C 1-4烷基、卤代烷基、烷氧基及次烷二氧 基、以及N-(二C1-4烷基)磺醯胺基 之部份取代之苯基。6.根据申请专利范围第1项之 化合物,其中 各R'代表甲基。7.一种制备申请专利范围第1项所 述式I化 合物之方法,其中将式Ⅴ化合物 (其中R7代表经任意取代之C1-6烷基) 与式H2N-O-R2衍生物反应,或者与 羟基胺反应,继而与式R2-L(其中L 为脱离基)化合物反应;之后,当所欲式 Ⅰ化合物中之R非为氢时,将式Ⅰ中R为 氢之产物与式R-L化合物(其中L为脱 离基且R代表C1-4烷基羰基,或苯基羰 基)反应,或与合适之有机或无机硷或盐 反应。8.式Ⅴ化合物,如申请专利范围第7项之定 义。9.一种制备申请专利范围第8项所述式Ⅴ化 合物之方法,其包含将下列式Ⅱ化合物 直接醯化,或将其制成式(Ⅵ)化合物 ,继而合适地重排该化合物。10.一种除草组合物, 包含申请专利范围第 1项所述之式Ⅰ化合物,以及至少一种载 剂。11.对抗场所中不欲植物生长之方法,其系 用申请专利范围第1项之化合物或申请专 利范围第10项之组合物处理场所。 |
