| 主权项 |
l﹒机能性熔电镀浴,其主要由铬酸,40-150g/1之磺酸基醋酸,碘酸盐,及合氮有机化合物所构成。2﹒如由诗专利范围第l项所谓之机能性铬电镀浴,其中所述电镀浴实质上不合其他羧酸,氟离子,溴离子,及晒离子。3.如由诗专利范围第l项所请之机能性铬电镀浴,其中熔酸以约150g/1至450g/l的量存在。4﹒如由诗专利范围第l项所谓之机能性路电镀浴,其中磺酸基醋酸以约8O一120g/l的量存在。5.如由诗专利范围第l项所请之机能性铬电镀裕,其中所述电镀浴亦包括数量可高达约4.5g/1的硫酸盐。6.如由诗专利范围第l项所请之机能性铬电镀浴,其中所述含氮有机化合物以约l-40g/l的量存在。7﹒如由诗专利范围第l项所请之机能性铬电镀浴,其中所述含氮有机化合物系选自甘氯酸,菸酸,异于酸, 啶,2-氨基啶,3-氯 啶, 啶羧酸,鸟嘌呤,基醋酸,及腺嘌吟。8﹒如由诗专利范围第l项所请之机能性分铬电镀浴,其中所述含氮有机化合物是甘氨酸。9﹒将机龙性铬层电镀于基层金属上的方法,其包含经由如申请专利范围第l项所请之电镀浴进行电淀积。10﹒如由诗专利范围第9项所请之方法,其中所述电淀积系在约50-70℃的温度下进行。11﹒如由诗专利范围第9项所请之方法,其中所述电淀积铬层的厚为约0.l-2mils。12﹒如由诗专利范围第9项所请之方法,其中电淀积系在约1-lOasi的电镀电流密度下进行。13﹒如由诗专利范围第12项所请之方法,其中所述电淀积铬层的厚度为至少约0.lmil。14﹒如由诗专利范围第9项所谓之方法,其中电流效率为至少约20%。 |
