| 主权项 |
1﹒一种可光照聚合之组合物",含如下基本成 份 (a)25至75重量百分比之聚合物粘合剂, (b)25至75重量百分比之丙烯酸或烷基丙 烯酸衍生物,可利用游离基聚合,且在 正常压力下沸点在100℃以上,和 (c)0.01至10重量百分比才在光化辐射作 用下,可使化合物(b)启发聚合作用的 化合物或诸化合物之组合,其中,丙烯 酸或烷其丙烯酸衍生物为式(I)之化 合物: 其中, A为O,NH或N-烷基, Q为-CO-CpH2p-Z-或-CkH 2k-, Z为O或NH, R1为H或甲基, R2为具4至12碳原子之烷基,可经 具1至3碳原子之烷基或烷氧基所取代之 5-或6-节环烷基,可经具1至4碳原 子之烷基,烷氧基或烷二氧基所取代之苯 基,或SO2R3, R3为具2至8碳原子之烷基或具6 至l0碳原子之单核芳基或芳氧基, k为3-10之数, l为0-10之数, m为2-10之数, n为1-15之数,而 p为3-6之数者。 2﹒如申请专利范围第l项之可光照聚合组合 物,又含可由游离基聚合之化合物,其在 正常压力下的沸点在100℃以上,并含至 少二个乙烯系不饱和聚合基者。 3﹒如申请专利范围第1项之可光照聚合组合 物,含式(I)化合物,其中A和Z为氧 原子者。 4﹒如申请专利范围第l项之可光照聚合组合 物,其中,粘合剂为非水溶性,而在硷性 水溶液内可溶或至少可膨润者。 5﹒如申请专利范围第2项之可光照聚合组合 物,相对于可聚合化合物的总量而言,含 5-100%重量之式(I)化合物,和0 -95%重量之有至少二可聚合基的聚合性 化合物者。 6﹒可光照聚合之记录材料,有可挠性透明暂 时支持体,和可转移的热塑性可光照聚合 之光阻层,含如下基本成份: (a)25至75重量百分比之聚合物粘合剂, (b)25至75重量百分比之丙烯酸或烷基丙 烯酸衍生物,可利用游离基聚合,且在 正常压力下沸点在1O0℃以上,和 (c)0.01至10重量百分比之在光化辐射作 用下,可使化合物(b)启发聚合作用的 化合物或诸化合物之组合, 以及,适意时,在光阻层自由侧上的覆盖 片,可以剥离,而且对此层之粘着性较暂 时支持体为弱,其中,丙烯酸或烷基丙烯 酸衍生物为式(I)之化合物: 其中, A为O,NH或N-烷基, Q为-CO-CPH2P-Z-或-CKH 2K-, Z为O或NH, R1为H或甲基, R2为具4至12碳原子之烷基,可经 具1至3碳原子之烷基或烷氧基所取代之 5-或6-节环烷基,可经具1至4碳原 子之烷基,烷氧基或烷二氧基所取代之苯 基,或SO2R3, R3为具2至8碳原子之烷基或具6 至10碳原子之单核芳基或芳氧基, k为3-10之数, l为0-10之数, m为2-10之数, n为1-15之数,而 p为3-6之数者。 7﹒浮雕记录之制法,其中,乾性固体之可光 照聚合光阻层含如下基本成份: (a)25至75重量百分比之聚合物粘合剂, (b)25至75重量百分比之丙烯酸或烷其丙 烯酸衍生物,可利用游离基聚合,且在 正常压力下沸点在100℃以上,和 (c)0.01至10重量百分比之在光化辐射作 用下,可使化合物(b)启发聚合作用的 化合物或诸化合物之组合, 并位于可挠性透明暂时支时体,在加压和 加热下重叠于最后支持体,并以影像方式 辐射,剥下暂时支持体,未辐射层区以显 像剂洗除,其中,光阻层合式(I)化合 物做为可由游离基聚合的丙烯酸或烷基丙 烯酸衍生物: 其中, A为O2NH或N-烷基, Q为-CO-CpH2p-Z-或-CKH 2K0-, Z为O或NH, R1为H或甲基, R2为具4至12碳原子之烷基,可经 具1至3碳原子之烷基或烷氧基所取代之 5-或6-节环烷基,可经具1至4碳原 子之烷基,烷氧基或烷二氧基所取代之苯 基,或SO2R3, R3为具2至8碳原子之烷基或具6 至10碳原子之单核芳基或芳氧基, k为3-10之数, l为0-10之数, m为2-10之数, n为1-15之数,而 p为3-6之数者。 |
